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정부, EUV 장비 규제 완화…반도체 설비 도입 기간 34일서 9일로

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정부, EUV 장비 규제 완화…반도체 설비 도입 기간 34일서 9일로

한승호 기자

기사입력 : 2026-06-02 15:10

/삼성전자 평택캠퍼스
/삼성전자 평택캠퍼스
[더파워 한승호 기자] 반도체 첨단 공정에 필요한 EUV 노광장비의 국내 도입 절차가 간소화된다. 산업통상부는 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반 제조시설이 아닌 ‘특정설비’ 기준을 적용하는 내용의 ‘고압가스 안전관리법 시행령’ 일부개정안이 국무회의에서 의결됐다고 2일 밝혔다.

이번 개정으로 EUV 장비 검사 절차는 기존 제조시설 기준에서 특정설비 기준으로 바뀐다. 이에 따라 장비 도입 시 필요한 검사 소요기간은 현행 34일에서 9일로 줄어들 전망이다. 단축 폭은 장비당 최대 25일이다.

비용 부담도 낮아질 것으로 보인다. 기존에는 EUV 장비 설치 때 기술검토, 허가, 중간검사, 완성검사를 거쳐야 했다. 이 가운데 중간검사는 해외 공인검사기관의 내압·기밀 검사로 진행돼 장비당 약 5억원이 소요됐다. 개정 이후에는 중간검사가 생략되고 기술검토와 완성검사 기간도 줄어든다.

그동안 EUV 장비는 내부에 고압가스 배관과 장치가 포함돼 현행 법령상 고압가스 제조설비로 분류됐다. 이 때문에 장비를 설치할 때마다 고압가스 제조시설 기준에 따른 기술검토와 검사를 받아야 했고, 장비 도입 지연과 기업 비용 부담이 발생한다는 현장 의견이 제기돼 왔다.

산업부는 반도체 업계와 협의를 거쳐 글로벌 안전기준과 국내 안전관리 체계의 정합성을 검토한 뒤 이번 개정안을 마련했다. EUV 장비를 특정설비로 지정하면 3년 주기 공장심사와 종합공정검사를 통해 제조사의 공정 및 품질관리 능력을 확인하는 방식으로 안전성을 관리하게 된다.

EUV 노광장비는 파장 13.5nm의 극자외선을 이용해 웨이퍼에 초미세 회로를 그리는 장비다. 네덜란드 ASML이 전 세계에서 독점 생산하고 있다. 장비 내부에는 액체 주석 분사를 위해 압축기 등 고압가스 제조설비가 포함돼 있으며, 공급된 혼합가스를 압축해 액체 주석 분사 압력으로 활용한다.

시행령 개정과 함께 시행규칙 개정도 추진된다. 산업부는 EUV 장비 외에도 물과 세탁세제 대신 이산화탄소를 사용하는 친환경 ‘액화 이산화탄소 세정설비’가 국내에서 상용화될 수 있도록 맞춤형 검사기준을 신설하기로 했다. 해당 설비는 규제샌드박스를 통해 안전성이 검증된 바 있다.

위험성이 낮은 고압가스시설의 안전관리자 선임기준도 조정된다. 상업용 액화 이산화탄소 세정설비는 안전관리 책임자 자격요건을 가스기능사 자격소지자에서 특별교육 이수자로 완화하고, 안전관리원 선임 대상에서는 제외한다.

고압가스 저장시설의 안전관리자 자격요건도 일반시설 양성교육 이수자에서 저장시설 양성교육 이수자로 바뀐다. 특정고압가스 사용신고시설은 안전관리 책임자 선임이 필요한 기준이 250kg 초과에서 500kg 초과로 완화된다. 1시간당 처리능력 60㎥ 이하 소규모 공기충전시설은 안전관리원 선임 대상에서 제외된다.

이번 개정안은 차주 중 공포된 뒤 즉시 시행될 예정이다. 김정관 산업부 장관은 “이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 규제혁신 사례”라며 “앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 지원하겠다”고 말했다.

한승호 더파워 기자 hansh1975@thepowernews.co.kr
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